無需EUV光刻機，拿下5nm，日本鎧俠量產新計畫，改寫晶片產業格局

目前， 晶片工藝已經達到5nm節點， 在全球晶片代工廠商中， 只有三星和臺積電掌握了5nm工藝， 並已經實現量產。

但需要明白的是， 越先進的制程工藝對于EUV光刻機依賴程度也就越高， 想要生產出良品率較高且性能較強的5nm晶片， EUV光刻機必不可少。

縱觀全球光刻機市場， 能夠生產EUV光刻機的企業只有荷蘭阿斯麥一家， 這家企業壟斷了100%的市場份額， 也正是因為如此， 在全球晶片需求量劇增的背景下， 阿斯麥也是賺得盆滿缽滿。

日前， 荷蘭阿斯麥發佈2021年第三季度財報顯示， 淨銷售額達到52億歐元。 值得一提的是， 在第三季度， 僅僅EUV光刻機的訂單量便為荷蘭阿斯麥提供了29億歐元的營收， 可以說， 強如三星和臺積電都離不開阿斯麥在EUV光刻機方面的支持。

而我國半導體產業遲遲無法突破， 便是因為光刻機方面的限制， 也因此， 在許多人的印象中， 想要製造出先進的晶片， EUV光刻機是無法繞開的設備， 難道真是如此嗎？

事實並非如此， 根據日媒報導， 日本半導體巨頭鎧俠傳來新消息， 鎧俠聯合半導體零部件廠商DNP， 成功研發出了納米壓印微影技術， 該技術簡稱為NIL。

目前， 基于NIL技術， 鎧俠已經成功掌握15nm量產技術， 這也就意味著，

鎧俠利用NIL技術成功避開了光刻機， 將在2025年實現15nm以下技術的研發。

據悉， NIL相比EUV光刻機有著諸多優勢， 比如在耗電量方面， NIL的耗電量壓低至EUV生產方式的10%左右， 同時， 設備投資成本也將降低40%， 這也就意味著， NIL比EUV光刻機能源消耗和投資成本更低。

按照鎧俠合作夥伴DNP所說，

NIL技術電路精細程度可以達到5nm級別， 並且， DNP已經進行了相關內部模擬實驗。

一旦NIL量產技術成功落地， 整個晶片產業格局將會被改寫。 以往晶片製造需要高度依賴EUV光刻機， 隨著NIL量產技術的到來， 這種局面將一去不復返。

而鎧俠作為NIL量產技術的重要貢獻者，

該量產技術成功商用後， 將彌補鎧俠在設備方面的不足， 並且， 鎧俠的NAND元件使用的是3堆疊立體結構， 更能適應NIL技術的微影制程。

不過， NIL在量產方面依舊需要解決眾多問題， 比如生產晶片的良品率問題， 但量產只是時間問題。

對于NIL， 半導體行業也是給予厚望，因為荷蘭阿斯麥在EUV光刻機設備方面壟斷太過嚴重，定價權基本掌握在阿斯麥的手中，一臺EUV光刻機設備價格高達10億，由于量產有限，不少半導體企業無法獲得EUV光刻機，嚴重影響公司發展的進程。

顯然，鎧俠和DNP在NIL方面的突破，影響到了阿斯麥在光刻機領域的壟斷地位，這也是許多半導體企業樂意看到的事情。

在筆者看來，鎧俠開發的NIL半導體工藝為我國半導體產業的發展提供新的方向，畢竟我國想要獨自研發出EUV光刻機實在太難，需要全球產業鏈的支援才有希望，但從目前的貿易環境來看，中國在EUV光刻機突破簡直就是難如登天。

所以，中國半導體產業可以如鎧俠這般，換道進行相關技術研發，或許中國半導體產業的突圍難度會降低一些。

可以預見，荷蘭阿斯麥的時代即將過去，未來，全球半導體產業將呈現出百花齊放的局面，期待中國能實現換道超車。

半導體行業也是給予厚望，因為荷蘭阿斯麥在EUV光刻機設備方面壟斷太過嚴重，定價權基本掌握在阿斯麥的手中，一臺EUV光刻機設備價格高達10億，由于量產有限，不少半導體企業無法獲得EUV光刻機，嚴重影響公司發展的進程。

顯然，鎧俠和DNP在NIL方面的突破，影響到了阿斯麥在光刻機領域的壟斷地位，這也是許多半導體企業樂意看到的事情。

在筆者看來，鎧俠開發的NIL半導體工藝為我國半導體產業的發展提供新的方向，畢竟我國想要獨自研發出EUV光刻機實在太難，需要全球產業鏈的支援才有希望，但從目前的貿易環境來看，中國在EUV光刻機突破簡直就是難如登天。

所以，中國半導體產業可以如鎧俠這般，換道進行相關技術研發，或許中國半導體產業的突圍難度會降低一些。

可以預見，荷蘭阿斯麥的時代即將過去，未來，全球半導體產業將呈現出百花齊放的局面，期待中國能實現換道超車。