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中國EUV光刻機快要突破?中企巨頭已經攻克艱難技術,ASML都想不到會這麼快

大家都知道, 半導體晶片一直是整個科技發展的核心, 而晶片的研發和生產也屬於高精尖的科技領域, 這些年來, 國外科技巨頭企業一直對我們進行相關的技術封鎖;

此外, 中國科企業半導體晶片領域的發展始終落後於西方發達國家;此外, 半導體晶片的研發與生產還屬於重資產領域, 不僅投入大, 而且一直以來都要花鉅資。

中國雖然是全球有名的製造大國, 但是這些年來中國科技企業生產所需的晶片幾乎都是依賴於進口而來, 特別是智慧手機、電腦等前沿科技領域發展所需的高端晶片, 清一色的都是從美國高通、英特爾等企業手中進口而來, 嚴重的依賴於國外半導體晶片也導致國產科技企業的發展很容易受制於人, 像這一次華為被打壓, 就直接給國產科技企業的發展敲響了警鐘。

在此之後, 國內才下定決心要打造出屬於我們自己的國產半導體晶片產業鏈!

想到打造國產晶片產業鏈, 我們首先要解決的就是晶片的生產難題, 因為華為所研發的海思麒麟晶片現在一直都無法被生產出來, 這也嚴重的影響著華為公司的發展;

而我們想要生產晶片, 就必須要解決光刻機的問題才行,

現在全球領先的光刻機都被荷蘭ASML公司所壟斷, 在美國的不斷打壓之下, 荷蘭ASML公司也無法將先進的EUV光刻機賣給我們, 這時候我們唯有一條路可走, 那就是堅持自主創新的道路!

現如今EUV光刻機已經成為了國產晶片破冰的關鍵所在,

為了實現中國晶片發展的5年計畫, 國內的中科院、清華大學等機構也都展開了對光刻機等卡脖子技術的攻關;

當中國表示出要自主研發光刻機的時候, 荷蘭光刻機巨頭ASML公司則表示:世界人沒有哪一個國家可以單獨的完成光刻機的研發和生產, ASML公司就算是公開EUV光刻機的圖紙, 中國也造不出先進的EUV光刻機!

此前中國的科技巨頭華卓精科就已經對外宣佈自主研發出了EUV核心技術之一的雙工件臺系統, 而且還已經受到了臺積電等晶片生產廠家的青睞, 之後清華大學研發團隊又攻克了極紫外光波段的研發, 而極紫外光又是EUV光刻機的重要光源;

另外EUV光刻機所使用的光學鏡頭領域國內也取得了突破, 相當於是說EUV光刻機的核心三大零部件我們已經全部都拿下了, 這也就意味著國產EUV光刻機突破在即!

自從中國舉國上下大力開發半導體晶片後,國內在光刻機領域的發展也是非常迅猛,現在央視也報導了一件大事:中國科學院自研半導體晶片以來,中國在光刻機領域的發展非常迅猛。

即使是 ASML公司也沒有想到我們在光刻機領域能發展得這麼快;同時,在中國科研機構和無數科學家的不懈努力下,中國也必將研製出先進的 EUV光刻機,解決國產科技企業「卡脖子」發展的難題!

自從中國舉國上下大力開發半導體晶片後,國內在光刻機領域的發展也是非常迅猛,現在央視也報導了一件大事:中國科學院自研半導體晶片以來,中國在光刻機領域的發展非常迅猛。

即使是 ASML公司也沒有想到我們在光刻機領域能發展得這麼快;同時,在中國科研機構和無數科學家的不懈努力下,中國也必將研製出先進的 EUV光刻機,解決國產科技企業「卡脖子」發展的難題!

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