雙管齊下，芯片法案+限制光刻機出口，美國這次的算盤可能打錯了

為了限制我國半導體產業的發展，美國這幾年可謂是煞費苦心，對華為等企業進行制裁，限制各種技術出口到中國，短期來看，美國的這些做法是有效的，給我國半導體產業帶了不少壓力，典型的事件就是華為因為麒麟芯片的缺失，手機業務受到了沉重的打擊。

不過塞翁失馬焉知非福，美國的這些舉動，讓國人認清了現實，國內的相關行業將壓力轉化為了動力，國家也下定了決心，要大力發展半導體等產業，以擺脫「卡脖子」的問題，隨著相關投入的不斷增加，中國本土半導體產業的發展反而加速了。

雖然有成績，但是我們要保持冷靜，不能盲目樂觀，要意識到我國在半導體制造上面的水平還不強，與臺積電，三星和Intel這些巨頭的差距比較明顯，而美國對此事也很清楚，因此采取了更多的措施。

一方面，美國采用拉攏的手段，提出了芯片法案，該法案的相關內容中，提出了為那些在美國建廠的半導體公司提供500多億美元的補貼，以及各項稅收抵免政策，不過接受了美國這些補助的企業，在美國建廠后，10年內不得擴大對中國高端芯片的投資。

這個法案的目標很明確，就是逼迫相關企業在中美之間選邊站隊，

拿了美國的錢，就不能在中國進行先進工藝的投資，以此來限制中國的半導體行業發展。目前美國參議院已經通過了這個法案，接下來就看能不能在參議院獲得通過了。

另一方面，美國在光刻機上面做文章，這屬于直接對中國的相關企業出手，

在2019年的時候，荷蘭就和美國達成了協議，ASML不能向中國大陸芯片制造商出口EUV光刻機，而前不久美國希望ASML限制DUV光刻機對中國的出口。

光刻機是芯片制造的核心部件，EUV光刻機相比DUV光刻機更加先進，可以用于制造7nm以上的芯片，而DUV最高只能制造7nm的芯片，如果說以前美國不讓出口EUV光刻機，是不希望中國制造出7nm以上工藝的芯片，現在現在限制DUV光刻機無疑是變本加厲，因為目前全球的大部分芯片都是用DUV光刻機制造的。

不過好消息是美國的這個舉動遭到了光刻機巨頭ASML的拒絕，ASML首席執行官表示，中國大陸是半導體產業的重要參與者，是全球非常重要的供應商，中國大陸擁有滿足全球電子市場需求的芯片制造能力，必須要小心正在做的事情。

從該言論中可以看出，如果限制DUV光刻機出口到中國，全球的芯片供應將會面臨巨大的缺口，會導致半導體產業鏈的中斷，半導體市場的崩潰，這對于半導體產業鏈上面的任何公司都是災難，而中國大陸是ASML的第三大市場，

約占2021年銷售額的16%，如果限制DUV光刻機的出口，ASML除了短期利益遭受損失，市場崩潰帶來的長期影響也不能忽視。

總的來說，美國對于中國半導體行業的遏制不會善罷甘休，除了直接限制各種技術和設備的出口外，美國也在加強本身的半導體制造技術發展，

而中國想要破局，除了提升國內的半導體行業水平，還要積極擴大全球的市場占比。

這次如果不是因為中國是全球芯片的重要供應商，成為了全球市場的重要玩家，美國限制DUV光刻機的后果太嚴重，整個市場都承受不了，估計美國限制ASML向中國內地出口DUV光刻機就已經得逞了，反正中國的崛起已經不可阻擋了，美國是不會如愿的。