8月25日， 中微半導體設備有限公司舉行了2021年半年度業績說明會。 資料顯示， 今年上半年， 中微公司實現營業收入13.39億元， 同比增長36.82%。 而歸屬于上市公司股東的淨利潤為3.97億元， 比上年增長了233.17%。 值得注意的是， 中微公司上半年的刻蝕設備銷售額為8.58億元， 同比增長83.8%。 腐蝕設備的毛利率為44.3%， 高於中微公司上半年的總體毛利率(42.3%)。
毫無疑問， 中微公司在2021年上半年總營收、利潤雙雙增長， 以及刻蝕機設備銷售額、毛利率穩步提升， 得益於當下全球半導體設備市場不斷提升的需求量。
資料顯示：中微公司成立於2004年， 公司主營業務為薄膜製造設備、等離子科技設備以及大面積顯示幕設備的研發工作。
經過十幾年的發展， 如今的中微公司已經發展為一家具備自主研發能力的半導體科研企業， 相關業務范圍已經拓展至全球。 尤其是刻蝕機領域， 中微公司更是取得了長足的進步與發展，
對於刻蝕機設備的發展前景， 中微公司董事長尹志堯在半年度業績說明會上表示：雖然目前全球經濟的增速不斷放緩， 但是整個半導體行業卻逆勢上漲，
據SEMI預測：隨著全球半導體設備市場增速不斷上漲， 2021年市場規模將達到797億美元， 增長12%。 其中， 等離子體刻蝕設備預計2021年市場規模將增長至179億美元（約合人民幣1179億元）。
對於中國而言， 當下積體電路設備採購比例仍處於較低的水準。 以2020年為例， 僅占半導體市場採購額的7%。 這意味著中國國產半導體設備具備相當大的發展空間， 有望與外資搶奪1159億元的市場。
而中微公司作為中國高端半導體微觀加工設備公司， 面對中國半導體設備龐大的發展空間， 自然不會選擇坐以待斃。
目前， 中微公司開發的12英寸高端刻蝕設備已經得以運用；此外， 中微公司已經在特定客戶的要求下， 研發出小於5nm的刻蝕設備並取得了批量訂單。 同時， 中微公司的MOCVD 設備目前已經取得了行業領先。
對於公司今後的發展， 中微公司董事長尹志堯也給出了一定的規劃：一方面， 未來中微公司將深耕積體電路設備領域， 並強化公司在相關刻蝕設備領域的關鍵競爭優勢；另一方面， 中微公司不斷深化戰略佈局， 將刻蝕設備領域的關鍵優勢拓展是其他半導體設備領域， 並積極探索其他新興領域的發展機會。
根據中微公司目前的發展狀況和未來發展佈局，在全球半導體設備需求持續大幅增長的今天，中微公司繼續加強其核心競爭優勢，拓展新興業務，並在一定程度上把握發展機遇，保證公司穩步、可持續發展。
根據中微公司目前的發展狀況和未來發展佈局，在全球半導體設備需求持續大幅增長的今天，中微公司繼續加強其核心競爭優勢，拓展新興業務，並在一定程度上把握發展機遇，保證公司穩步、可持續發展。