據環球網報導， 近來美國方面再對荷蘭阿斯麥控股公司（ASML）進行了施壓， 施壓條件和和中國密切相關。 早之前， 中國就曾向ASML求購一項關鍵裝備， 但卻因為美國施壓， 阿斯麥至今一臺都沒出售。 這致使全球范圍內本就緊張的晶片供應鏈變得愈加緊張。 所以中國向荷蘭ASML公司求購的關鍵裝備究竟是什麼呢？它的研製技術又難在哪裡呢？
據瞭解， 中國向荷蘭阿斯麥求購其實就是高端光刻機， 它是製造晶片的一種「獨一無二」的裝備， 號稱世界上最精密的儀器， 又被稱作「現代光學工業之花」， 單臺售價達到了1.2億美金。
此前世界上能夠實現高端光刻機量產的國家只有荷蘭和日本， 相關廠商就是荷蘭的ASML以及日本的尼康和佳能。 不過從2008年開始， 日本佳能已經逐漸放棄了光刻機業務， 只有尼康還在奮力追趕。
有公開資料顯示， 早在2007年， 荷蘭阿斯麥就已經佔據了大約60%的中高端光刻機市場份額， 在最高端市場， 阿斯麥更是一舉搶佔了80%的市場份額。 幾年前， 阿斯麥成功研發出了最新的極端紫外線光刻機EUV， 能夠實現7納米以下先進半導體制程， 這更進一步奠定了阿斯麥公司業界老大的地位。
目前美國英特爾以及韓國三星電子都需要依靠阿斯麥的高端光刻機來製造智慧手機以及電腦等設備中的晶片。 日本尼康在國際上的高端光刻機市場份額被不斷擠壓， 研發更顯得力不從心。 中國向阿斯麥求購也是希望借此減少對外部供應商的依賴。 此番雖然遭到美國的封鎖，
對中國來說， 光刻機技術是遲早都需要攻克的， 不可能因為已經存在業界老大， 還可以直接採購高端光刻機而放棄對相關技術的探索， 從美國的出手就可以看出， 要想不被卡脖子， 自身實力才是硬道理。
早之前中國已經能夠造出實現22納米半導體制程的關鍵設備——深紫外線光刻機DUV， 並能通過重複曝光生產7納米級晶片， 儘管這和荷蘭的極端紫外線光刻機EUV仍有較大差距， 但是已經很值得慶祝。
有專家表示， 現如今有不止一家晶片企業正致力於突破EUV技術， 中國現如今沒能做出來EUV光刻機的原因其實是實驗的次數、投入的時間、人力以及財力還沒達到可以產能質變的程度，有工程師證明：高端光刻機的一個零件都要打磨10年。
光刻機同時又是西方對中國封鎖技術的一個縮影，事實證明，封鎖並不能阻礙中國科技的前進步伐，相反會更加堅定中國自主創新的決心和意志。
中國現如今沒能做出來EUV光刻機的原因其實是實驗的次數、投入的時間、人力以及財力還沒達到可以產能質變的程度，有工程師證明：高端光刻機的一個零件都要打磨10年。光刻機同時又是西方對中國封鎖技術的一個縮影，事實證明，封鎖並不能阻礙中國科技的前進步伐，相反會更加堅定中國自主創新的決心和意志。